2020年“中国机械工程学会会员日”活动 —— 【磁流变抛光技术与装备】青年科研团队专访
来源:本站原创 浏览次数: 发表日期:2020-05-13
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本期嘉宾

张云飞,男,副研究员,机械制造工艺研究所,超精密中心磁流变抛光技术与装备科研团队负责人,主要研究方向为磁流变抛光技术。

团队成员

磁流变抛光技术与装备科研团队现有研发人员12人,其中研究员1名,高级工程师3人,中级职称5人。团队始终致力于磁流变抛光装备的国产化和产业化。

团队简介

团队主要研究方向为以磁流变效应为核心的确定性研抛技术与装备,团队愿景是建立磁效应超精密研抛技术体系,提供高性价比的系列化研抛技术产品与系统解决方案,为我国光电行业高精度光学元件确定性抛光提供技术支撑。

团队最新科技进展

围绕磁流变抛光装备研制,科研团队攻克了双摆动双抛光头非球面磁流变抛光机床、系列化磁流变抛光头研制关键技术,提供了磁流变抛光机床的加工范围、可靠性和稳定性。围绕磁流变抛光液,攻克了超光滑、高效率磁流变抛光液制备关键技术,研制了可满足K9、熔石英的系列化氧化铈、金刚石水基磁流变抛光液。围绕复杂曲面磁流变抛光,掌握了大口径平面、非球面磁流变抛光面形误差技术,研制了一套磁流变抛光工艺软件,具备了大口径平面、非球面抛光工艺能力。

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目前,研究团队的产品在功能完备性、可靠性、稳定性方面与国外尚有较大差距。期待与智能制造、超精密抛光方面的专家开展深度合作。
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